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Electronics solutions

Halocarbon 处于现代微电子行业的最前沿。从锂离子电池电解液添加剂、 下一代半导体光刻胶单体、柔性显示屏用聚酰亚胺解决方案,到电子级溶剂 — 以全球电子行业所要求的规模与品质供应特殊氟化学产品。 Wholesale Industry 将其传递至韩国市场。

01 · Battery

Lithium ion battery solutions

锂离子电池是电动汽车·ESS·移动设备的核心能源,能量密度越高,电解液的 稳定性·安全性课题越突出。Halocarbon 的氟化电解液添加剂与共溶剂 (co-solvents)旨在高电压·高温环境中保护电解液,同时提升电芯寿命与安全性。

Battery
4 Key Benefits

氟添加剂改变的电芯行为

  • 提升电解液稳定性 · 降低高电压(>4.3V)分解
  • 电芯组成部件兼容性 · 改善电荷传输
  • 优化 SEI 层形成 · 减少初期循环损失
  • 减少产气 · 抑制电芯膨胀(swelling)
Target Cell Designs

适用电芯构成

  • High Nickel NMC(NMC 811 及以上)正极
  • Silicon-containing / Li metal 负极
  • 高电压(>4.3V)电芯结构
  • 下一代全固态·聚合物混合电芯
Electrolyte Additive · Ether
LiB 2100 ET
High Nickel NMC · 不燃
Type
Ether-based
Cathode
High Ni NMC
Temp
高温膨胀降低

不燃醚基添加剂。降低高温膨胀·提升循环寿命。

Electrolyte Additive · Ester
LiB 2100 ES
High Nickel NMC 兼容
Type
Ester-based
Cathode
High Ni NMC
Role
Co-solvent

用于高容量电芯的酯类辅助溶剂·添加剂。

Electrolyte Additive · Ether
LiB 1200 ET
Li metal anode · 高沸点
Type
Ether-based
Anode
Li metal
BP
高沸点

用于 Li metal 负极的高沸点醚。高 anodic 稳定性。

Electrolyte Additive
LiB 2100 CR
High Nickel NMC
Role
Additive
Cathode
High Ni NMC
Feature
Cycle life

为改善循环寿命的 LiB 2100 系列变体。

Electrolyte Additive · Ether
LiB 2201 ET
高能量密度电芯
Type
Ether-based
Target
High-density
Feature
Thermal

增强高能量密度·高温条件下的长期稳定性。

Electrolyte Additive · Ester
LiB 1101 ES
Silicon anode 兼容
Type
Ester-based
Anode
Si-containing
Role
SEI 形成

在含硅负极中辅助 SEI 层形成。

Electrolyte Additive · Carbonate
F3EMC
High voltage · >4.3V
Type
Carbonate
Voltage
>4.3V
Ref
Nat. Energy

用于高电压电芯的碳酸酯基添加剂。降低高电压分解。

机制
普通碳氢化合物类
Halocarbon 氟添加剂
高电压稳定性
4.2V 以上加速分解
C–F 键相比 C–H 在热力学上更稳定
SEI 层
以 EC/VC 为主,可能不均匀
形成均匀 SEI,高电压保护
电芯膨胀
分解气体累积
分解减少 → 产气降低
起火风险
可燃
多数为不燃变体
面向亚洲电池电芯·电池包制造商,根据具体工艺要求提供添加剂·共溶剂方案。
02 · Semiconductor

Semiconductor fabrication solutions

Halocarbon 十余年来与半导体原材料供应链协作,供应下一代工艺用光刻胶 单体·前驱体·特殊氟化学产品。从 193nm 浸没式(193i)到极紫外(EUV)光刻, 以HFIP(hexafluoroisopropyl)化学为中心,体系化了微细化 所需的单体体系。

Semiconductor
Why Fluorochemistry

光刻中氟的三大贡献

  • 透明度控制 — 在 193nm 本质透明。EUV 下相比碳基最高 4 倍吸收效率
  • 疏水性控制 — 以 HFIP 基单体实现高 water contact angle,改善 193i 扫描速度
  • 溶剂兼容 — 在 TMAH 碱性显影液中实现 pH 触发的溶解度切换
EUV Specific

面向 EUV 工艺的氟作用

  • 补充·强化 Tin·Hafnium·Zirconium 高-Z 金属光刻胶
  • 抗 Plasma etch — 用作 TARC(top anti-reflective coatings)
  • 低表面能 — 控制光刻胶附着·剥离(lift-off)
  • 化学耐受性 — 将 outgassing 最小化,选择性溶解度参数

193 Immersion Lithography Monomers (8)

HFIP Monomer · 193i
Halocarbon TTBD
193i photoresist monomer

193i 光刻胶用 HFIP 衍生物单体。

HFIP Monomer · MA · 193i
MA-TTBD
Methacrylate form

TTBD 的甲基丙烯酸酯衍生物。

HFIP Monomer · 193i/EUV
Halocarbon 3TPD
193i & EUV 通用

可用于 193i 与 EUV 两种工艺的 HFIP 单体。

HFIP Monomer · MA
MA-3TPD
Methacrylate form

3TPD 的甲基丙烯酸酯衍生物。

HFIP Monomer · 193i
Halocarbon TTPD
193i photoresist

193i 浸没式光刻用单体。

HFIP Monomer · MA
MA-TTPD
Methacrylate form

TTPD 的甲基丙烯酸酯衍生物。

Precursor
HFIP
Hexafluoroisopropyl alcohol

HFIP 系列单体的核心前驱体。

Monomer · MA
MA-HFIP
Methacrylate form

HFIP 的甲基丙烯酸酯衍生物。用于聚合物合成。

EUV Lithography Monomers (4)

HFIP Monomer · EUV
Halocarbon 3TPD
5nm 及以下节点

兼容 EUV 工艺的 HFIP 单体。

HFIP Monomer · MA · EUV
MA-3TPD
Methacrylate · EUV

用于 EUV 的 3TPD 甲基丙烯酸酯衍生物。

HFIP Monomer · EUV
Acetonaphtone-HFIP
EUV 吸收提升

在 EUV 波长下吸收效率提升的 HFIP 变体。

HFIP Monomer · EUV
Norbornene-HFIP
EUV · 刚性主链

基于降冰片烯的 HFIP 单体。刚性结构与 EUV 兼容性。

半导体光刻胶相关的规格·纯度·NDA 条件因客户而异。 初期咨询中确认工艺条件·允许杂质·所需数量后,与总部 R&D 协商。
03 · Polyimide

Advanced polyimide solutions

Halocarbon 是提供无色聚酰亚胺(colorless polyimide)薄膜核心 单体体系的美国唯一制造商。这是支撑柔性显示屏、低介电损耗应用、光敏聚酰亚胺 (PSPI)、保形涂层等下一代电子设备薄型·柔性·高速化的产品线。

Polyimide
Target Applications

主要应用领域

  • 柔性 OLED·Micro LED 显示基板
  • 低介电损耗(low-dielectric loss)电路基板 · 高频应用
  • 基于光敏聚酰亚胺(PSPI)的保形涂层
  • 半导体封装 · 互连薄膜
Why Fluorinated PI

引入氟带来的优势

  • 无色 · 透明度 — 显示基板的视觉品质
  • 低介电常数 · 低损耗 — 提升高频信号完整性
  • 低吸湿性 · 尺寸稳定性
  • 热稳定性 · 化学耐受性
Polyimide Monomer
Halocarbon 6-FXY
Colorless PI · flexible display
Role
Core monomer
Use
Colorless PI
Field
Flexible display

无色聚酰亚胺薄膜的核心单体。用于柔性显示基板。

Processing Aid
TFAA
Trifluoroacetic anhydride
Role
Processing aid
Use
PSPI · low-loss
Type
Anhydride

用于光敏 PI、低介电损耗应用的氟加工助剂。

如您正在评估柔性显示屏·低介电应用,请告知所需规格与规模。 我们将对接总部 R&D 进行定制协商。
04 · Solvents

Electronics grade solvents & processing aids

微电子制造多个环节所需的高纯度溶剂·加工助剂产品线。 低 GWP(low global warming potential)工程氟流体 Halocarbon HFE 是 3M Novec™ 7100 的环保替代品,用作关键部件清洗与保形涂层载体溶剂。

Solvents
Engineered Fluid · Low GWP
Halocarbon HFE
Critical cleaning · Novec alt.
Role
Cleaning fluid
Env
Low GWP
Use
Carrier · coating

低 GWP 工程氟流体。关键清洗·保形涂层载体溶剂。

Chelating Agent
HFAcAc
Semiconductor chamber cleaning
Role
Chelating
Use
Chamber clean
Field
Semi

六氟乙酰丙酮。用于半导体腔室清洗的氟螯合剂。

正在评估 Novec 7100 替代品、低 GWP 清洗流体、半导体腔室清洗解决方案吗?
WHY HALOCARBON

Fluorochemistry that scales with electronics

Commercial Scale

从研究用克级到商业生产吨级以同等品质供应的体系。

75 年的积累

自 1950 年以来积累的氟化学路径设计能力。可应对定制结构。

Regulatory Ready

标准提供高监管电子行业所需的 COA·SDS·批次可追溯性文件包。

CONSULTING · NDA · SAMPLES

电子行业客户专属咨询窗口

电池·半导体·显示屏工艺以 NDA·法规应对为核心。Wholesale Industry 运营与总部应用工程师直接连接的咨询渠道,一体化支持中文技术协商 + 样品评估 + 法规文件本地化。